真空度对真空镀膜有什么重大影响

真空镀膜行业由于其镀膜工艺，需要抽真空，因此都连接了真空系统，真空泵因此大量应用于真空镀膜行业，真空泵过滤器也具有大量需求。

真空镀膜过程中，使用的真空度一般要求在10的负3次方上下，真空度是真空镀膜时务必严格管理的指标值之一，它对镀膜产品的颜色、耐磨性能、坚固度有非常重要的关联。

真空镀膜机

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，真空镀膜公司，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。

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真空镀膜系统

真空镀膜机是目前制作真空条件应用为广泛的真空设备，一般用真空室、真空机组、电气控制柜三大部分组成

真空镀膜系统优点：蒸发镀膜与手套箱组合，实现蒸镀、封装、测试等工艺全封闭制作，使整个薄膜生长和器件制备过程高度集成在一个完整的可控环境氛围的系统中，消除有机大面积电路制备过程中大气环境中不稳定因素影响，保障了、大面积有机光电器件和电路的制备。

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