蒸发镀膜

一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。
厚度均匀性主要取决于：

1、基片材料与靶材的晶格匹配程度

2、基片表面温度

3、蒸发功率，真空镀膜系统，速率

4. 真空度

5. 镀膜时间，厚度大小

组分均匀性：蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。

如需了解更多真空镀膜的相关信息，欢迎关注艾明坷网站或拨打图片上的询！

真空镀膜机镀制薄膜不均匀的解决方法

制的薄膜的均匀性都会受到某种因素影响。
真空状态需要抽气系统来控制的，每个抽气口都要同时开动并力度一致，这样就可以控制好抽气的均匀性，如果抽气不均匀，在真空室内的压强就不能均匀了，压强对离子的运动是存在一定的影响的。
另外抽气的时间也要控制，太短会造成真空度不够，但太长又浪费资源，不过有真空计的存在，要控制好还是不成问题的。

本信息由艾明坷为您提供，如果您想了解更多产品信息，您可拨打图片上的咨询，艾明坷竭诚为您服务！

ST系列镀膜机

ST系列镀膜机系我司标准化产品，满足大部分实验室科研需求，丰富的可选配置也可响应您的特殊需要。
特点：1、集成一体化结构。

2、极限真空度高，可达7×10-5Pa，可保证更高的镀膜纯净度，提高镀膜质量。

3、从大气到工作背景真空（7×10-4Pa）时间短，30分钟左右（充干燥氮气）。
系统停泵关机12小时后真空度：≤8Pa。

4、整机采用柜式结构，密封性能好，防尘防水，安全。

5、磁控、热蒸发多种镀膜方式可选。

本信息由艾明坷为您提供，如果您想了解更多产品信息，您可拨打图片上的咨询，艾明坷竭诚为您服务！

江苏真空镀膜系统-艾明坷由艾明坷科技（北京）有限公司提供。
艾明坷科技（北京）有限公司是从事“手套箱,溶剂净化”的企业，公司秉承“诚信经营，用心服务”的理念，为您提供更好的产品和服务。
欢迎来电咨询！联系人：张女士。