真空镀膜系统

离子蒸发及溅射源　

多弧镀的蒸发源一般为圆饼形，俗称圆饼靶，也有长方形的多弧靶。靶座中装有磁铁，通过前后移动磁铁，改变磁场强度，可调整弧斑移动速度及轨迹。为了降低靶及靶座的温度，要给靶座不断通入冷却水。为了保证靶与靶座之间的高导电、导热性，还可以在靶与靶座之间加锡垫片。磁控溅射镀膜一般采用长方形或圆柱形溅射阴极。

常见的真空镀膜材料

氧化物一氧化硅SiO，二氧化硅SiO2，二氧化钛TiO2，二氧化锆ZrO2，二氧化铪HfO2，一氧化钛TiO，五氧化三钛Ti3O5，五氧化二铌Nb2O5，五氧化二钽Ta2O5，氧化钇Y2O3，氧化锌ZnO等高纯氧化物镀膜材料。

其它化合物硫化锌ZnS，硒化锌ZnSe，氮化钛TiN，碳化硅SiC，钛酸镧LaTiO3，钛酸钡BaTiO3，钛酸锶SrTiO3，钛酸镨PrTiO3，硫1化镉CdS等真空镀膜材料。

金属镀膜材料高纯铝Al，高纯铜Cu，高纯钛Ti，高纯硅Si，高纯金Au，高纯银Ag，高纯铟In，高纯镁Mg，高纯锌Zn，高纯铂Pt，高纯锗Ge，高纯镍Ni，高纯金Au，金锗合金AuGe，金镍合金AuNi，镍铬合金NiCr，钛铝合金TiAl，锌铝合金ZnAl，铝硅合金AlSi等金属镀膜材料。　

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真空镀膜系统

真空度相对来说比较稳定，但是也会受到一些因素的影响，比如大气压，但是安装真空泵过滤器是不会对真空度产生影响。

关键对镀膜加工工艺的危害，不管哪些镀膜方法，真空度越高亦意味着炉内含有的杂气分子越少，那样镀膜膜层成份就更趋于你要想的占比，简易的说便是纯净度及结晶体情况更具精密性。

另外，针对镀膜而言，都有加温这一基本步骤，较高的真空度能够避免板材表层空气氧化或渗氮，对结合性有非常大的协助。

真空镀膜工艺对真空泵的要求较高，同时，对真空泵过滤器也具有较高要求，因此推动真空泵过滤器的发展进步。

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